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    墨水納米分散機

    簡要描述:

    墨水納米分散機是顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。

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    墨水納米分散機

    墨水納米分散機 ,墨水分散機  墨水高速分散機是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。 

     

    墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應(yīng)用的很多類產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種,并有添加色素或樹脂。如采用傳統(tǒng)加工方式,需要花費相當長的時間來溶解樹脂,還會發(fā)生沉淀和結(jié)塊。使用SGN設(shè)備,客戶可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。

    縮短工藝時間。SGN設(shè)備產(chǎn)生的高剪力,可以打碎樹脂顆粒,并暴露于溶劑中,加速溶解過程。

     

    提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細度,SGN設(shè)備可以研磨色素,或消除終產(chǎn)品的結(jié)塊。SGN有多種分散頭供選擇,能完美的勝任各項任務(wù)。

    顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生


    *納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。

     

    墨水納米分散機

    分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。

    影響分散乳化均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點

     

    1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

    2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

    3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

    4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,不能再好)

     

    線速度的計算

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    – 剪切速率 (s-1) = 速率 (m/s) 
    -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    – 轉(zhuǎn)子的線速率

    – 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

     

    速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

    產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 墨水高速分散機 墨水分散機 墨水納米分散機

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